cmp

CMP抛光垫,预测期内复合年增长率为8.3%

化学机械抛光/平坦化(CMP)是一种通过化学作用与机械(或研磨)作用相结合来去除材料,从而获得高度光滑和平整材料表面的工艺。该工艺在半导体行业中作为标准制造流程,用于制造集成电路和存储磁盘。当以去除表面材料为目的时称为化学机械抛光,而以表面平坦化为目的时则称为

预测 cmp 抛光垫 机械抛光 cmp抛光垫 2025-10-27 23:15  2

半导体新势力崛起!3朵金花硬实力碾压老龙头,潜力太足

半导体行业的风向变了!不再是老龙头一统天下,一批新势力凭借实打实的技术突破和爆发性增长,成了市场新晋的“香饽饽”。这就是被业内称作“新三朵金花”的拓荆科技、华海清科、长川科技——它们不玩概念炒作,专攻“卡脖子”的核心设备领域,硬实力直逼国际一线,甚至在部分细分

半导体 华海 中芯国际 cmp 金花硬实力 2025-10-17 15:20  2

光刻胶,需求旺盛

2025年10月,富士经济对全球半导体材料市场进行了调查,并发布了截至2030年的预测结果。结果显示,预计2030年市场规模将达到约700亿美元,而2025年仅为500多亿美元。其中,前端材料市场规模将达到560亿美元,后端材料市场规模将达到141亿美元。人工

浆料 光刻胶 cmp 正胶 微电子器件 2025-10-14 19:11  3

cmp工艺里的抛光头是什么?

晶圆吸附:抛光头通过真空吸附或机械夹持来达到固定晶圆的目的。抛光过程中晶圆需要保持稳定,不希望发生任何的移动或滑动。这有助于实现精确的抛光控制,从而保证所需的表面平坦度。2,对晶圆施加压力:通过施加压力,抛光头确保晶圆表面与抛光垫紧密接触,促进均匀的材料去除。

工艺 cmp 抛光垫 固定环 cmp工艺 2025-09-30 00:56  2

AMAT 最先进的 CMP 平台

Opta™ 是一个集成了多达 10个 清洗工艺单元,基于多个抛光工艺区的系统架构。Opta™ 的模块化和灵活的架构为整个节点提供了最高的吞吐量。

hpc opta cmp cmp平台 amat 2025-09-25 08:27  4

CMP,逐梦混合键合!

本次分享的报告全面概述了半导体制造中用于混合键合(Hybrid Bonding)的化学机械抛光(CMP)技术。CMP 被定义为一种结合化学与机械作用以实现薄膜平坦化的关键技术。报告深入探讨了 CMP 在混合键合中的作用,强调了其在实现可控凹陷和表面粗糙度方面的

逐梦 晶圆 cu cmp 机械抛光 2025-09-21 10:20  5

应用材料AMAT增长强劲,AI领域全面开花,Capex&

2025年,全球半导体产业资本开支有望突破2000亿美元大关。SEMI最新权威报告显示,AI芯片需求刺激下,台积电、三星和海力士等巨头陆续上调投资预算,HBM和先进封装产线成为新风口。就在全行业“AI+”浪潮高歌猛进之际,半导体设备龙头应用材料(AMAT.O)

应用 ald capex cmp amat 2025-09-20 09:35  4